近日，2021年度美国光学学会会士（OSA Fellow）名单揭晓。此次，共有来自全球的118名科学家入选，其中包括10位中国科学家。电院苏翼凯教授因在“集成光电子器件及光信号处理方面的应用”等领域的开创性工作，成功当选美国光学学会会士。

苏翼凯教授为上海交通大学电子信息与电气工程学院教授、博士生导师。曾获得国家自然基金委杰出青年基金，并入选“长江学者奖励计划”。担任IEEE光子学会上海分会主席、APL Photonics Associate Editor （2016）、Photonics Research Associate Editor （2013-2019）、Optics Letters Topical Editor（2008-2014）、IEEE JSTQE Guest Editor（2008/2011）。发表论文400余篇，被引用超过5000次（Scopus检索），受邀请在国际会议上做报告约七十次。拥有授权美国专利6项，中国发明专利50多项。多个国际会议共同主席（ACP等）、国际会议技术委员会委员（CLEO、OFC、ECOC、LEOS等）。

研究方向：光电子集成芯片、光信号处理、高速光通信。

苏翼凯教授团队自2006年起在国内较早地开展了关于硅基光芯片的研究，其研究内容及成果包括：

1)芯片：实现了超高速光学微分器、光学移相器、高消光比的偏振分束器、超高效热调滤波器、高阶模式转换器等一系列高速光信号处理功能器件，相关成果被国内外大量引用；提出波长-偏振-模式三个维度的光交换芯片架构并研制了硅基集成芯片，相关成果在光通信领域列第一的国际会议OFC2019上作邀请报告，随后在IEEE/OSA J. Lightwave Technology期刊上发表邀请论文；研制了单偏振11通道的模式复用芯片，为目前为止国际上最高阶数的集成化模式复用器，成果发表后被大量引用，受光电子领域列第一的国际会议CLEO2021邀请，将作邀请报告。此外针对模式复用这一国际上关注的前沿技术，应Applied Physics Letters邀请将撰写该领域的展望文章（Perspective）。

2）平台：构思并共同建设了AEMD平台，依靠张永老师等技术骨干，开发出了具有特色的高精度加工工艺，实现了亚波长结构的多种硅光器件。受邀在Advanced Materials Technologies（封面论文）和Nanophotonics期刊上发表邀请综述论文，介绍硅光平台和亚波长器件的成果；基于AEMD开发的部分工艺对外开放，为二十多个单位提供了加工服务和技术支持，一定程度上促进了国内光电芯片领域的发展。

3）高速系统：搭建了100Gb/s、160Gb/s、16×112Gb/s（1.76Tb/s）等高速传输平台，用于各种芯片和子系统的性能验证。有关新型接收机的工作被OFC2019评为Top scored论文，并被J. Lightwave Technology邀请发表。

美国光学学会（OSA），成立于1916年，是世界光学领域权威的国际性学术组织。光学学会会士（OSA Fellow）是美国光学学会授予该领域专家的最高学术荣誉，其遴选程序非常严格，最终当选OSA Fellow的会员必须是被认为“对光学的进展做出重大贡献”的学者。按照OSA章程的规定，会士的数量不超过OSA会员总数的10%，而每年选出的人数仅为当前会员总数的约0.5%。

作者： 网络空间安全学院 供稿单位： 电子信息与电气工程学院