2019年9月17日上午，应能源与动力工程学院、低品位能源利用技术及系统教育部重点实验室的邀请，南非约翰内斯堡大学Tien-Chien Jen教授做客重庆大学90周年校庆“学术校庆”系列活动——工程科学前沿讲坛，在能动学院303教室开展了学术交流活动。Jen教授作了题为“The Way Forward in Numerical Investigation of the Atomic   Deposition Process（原子层沉积过程数值模拟研究进展）”的学术报告。能动学院党委书记潘良明教授主持本次讲座。

Jen主要从事原子层沉积等多种领域的研究工作。微半导体产业自诞生以来，就面临着的薄膜沉积的问题，这些薄膜伴随着一些特殊性质，以满足制造部件所需的耐久性、效率和性能要求。到目前为止，工业界已经证明原子层沉积能够获得性能卓越的高质量纳米薄膜。这些特性对于先进技术和实现无销孔、均匀、保形和精确厚度的产品的优化高效制造生产至关重要。

报告中，Jen介绍了南非约翰内斯堡大学的主要信息和工作生活环境，并讲述了团队研究小组在原子层沉积领域的数值模拟研究工作方面的进展。通过利用连续介质、格子玻尔兹曼理论、密度函数理论、分子动力学等方法对反应堆内部的众多现象和薄膜特性进行了数值模拟，内容涉及几何设计的行为和优化、原子层沉积组分优化、速度和曝光时间现象、化学动力学假设以及原子层沉积数值研究的前进方向等。丰富的报告内容和形象生动的讲解，带给了到场人员的较好的国际视野和前沿知识。

Jen报告内容展示出较强的逻辑性和深度，到场师生对其内容产生了较大的兴趣，与Jen积极互动，现场气氛活跃。讲座结束时，潘良明向Jen赠送工程科学前沿讲坛纪念奖牌，并合影留念。